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第198章 国产EUV光源突破(1 / 3)

华夏芯谷euv光源实验室的恒温车间里,空气仿佛被持续数年的高压凝成了固态。

巨大的二氧化碳激光器数组占据了半个厂房,发出低沉的嗡鸣,如同蛰伏的巨兽。。

“徐教授,情况不乐观!”

一位年轻工程师快步走到徐文渊身边,递上最新的检测报告,声音带着焦虑,

“连续运行四小时后,锡滴发生器喷嘴的铼铱钽合金表面,出现了微观裂纹!锡滴喷射均匀度正在下降,等离子体稳定性受到影响!”

徐文渊接过报告,目光锐利地扫过扫描电镜图象上那些如同蛛网般蔓延的细微裂纹。

这位材料学泰斗眉头紧锁:

“我们目前的铼铱钽合金,抗疲劳强度已是国内顶尖,但euv光源的环境太苛刻了,每秒数万次激光轰击,瞬时温度超两万度,这对任何材料都是极限考验。而且……”

他顿了顿,语气沉重,

“我们通过特殊渠道获取的高纯度铼金属即将耗尽,后续批量国产铼的纯度,恐怕难以维持现有性能。”

林薇站在一旁,脸色凝重。

阿斯莫的封锁不仅限于整机,已蔓延至内核材料和部件。

“金博士,能否调整激光参数?适当降低峰值功率,延长脉冲宽度,或许能减轻冲击?”

林薇提出设想。

金秉洙缓缓摇头,语气透着疲惫:

“我们试过了。能量一旦降低,euv输出功率就无法满足14n工艺的光强须求。这是一个死循环,保性能,损部件;保部件,失性能。”

他看了一眼屏幕旁倒计时的红色数字,

“距离‘天权5号’预定的流片窗口,只剩两周了。”

实验室里一片死寂,只有设备运行的嗡鸣,象是在为倒计时敲响丧钟。

就在这时,陈醒的身影出现在实验室门口。

他刚结束与“泛非项目”团队的跨洋会议,脸上带着旅途的疲惫,但眼神依旧清明锐利。

他没有寒喧,径直走到主控屏前,默默观察了十分钟那条起伏不定的曲线。

“问题的内核,是材料极限与能量平衡的矛盾。”

陈醒的声音打破了沉寂,清淅而冷静,

“我们不能在现有框架里打转,必须查找新的突破点。徐教授,合金配方还有优化空间吗?比如引入新的元素,或者采用表层防护技术?”

陈醒的话让徐文渊眼中一亮:

“常规的合金强化路径我们已走到瓶颈。但如果采用原子层沉积技术,在喷嘴关键局域镀上一层纳米级的特殊保护膜,或许能极大延缓裂纹产生!只是这需要定制专用设备,工艺难度极高,时间……”

“设备和人,我来协调!不惜一切代价!”

陈醒果断拍板,随即看向金秉洙,

“金博士,激光轰击方式能否改变?既然单点冲击力过大,能否将一束光,分而治之?”

“分而治之?”

金秉洙微微一怔,随即瞳孔收缩,

“您是说……采用微透镜数组,将主激光束分割成多个子束,实现多点同步轰击?”

“没错!分散冲击力,但保持总能量不变!甚至可能让锡滴汽化更均匀,提升等离子体稳定性!”

陈醒的思维极具跳跃性。

这个大胆的构想,如同在黑暗的迷宫中点亮了一盏灯!实验室的气氛瞬间被激活!

新的攻坚方向迅速确立。徐文渊团队立刻转向原子层沉积保护膜的研发与工艺验证,林薇协调国内顶尖精密制造企业,日夜赶制专用设备。

金秉洙团队则全力投入到微透镜数组的光路设计、控制算法重写以及与光学供应商的紧急协同中。

时间以小时为单位流逝。挑战层出不穷。保护

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